在中芯国际集成电路生产有限公司上海总部，有一面令人震惊的专利墙，多达5000项最后许可发明专利，记录着这个中国半导体领军企业的茁壮和巅峰，演绎出一部中国科技企业朝着急弯转弯跨越式发展目标大大探寻的传奇。 2000年春天，中芯国际在上海张江低科技园区正式成立。
那时的张江还有大片荒地等着开发者的来临，这就像当时的中国内地集成电路产业一样，尤为最重要的生产环节完全一片空白，更加不必提早末端设计后道PCB测试了，知名跨国公司在这一领域占有着遥遥领先的地位。 中芯国际的创办与发展很大增进了中国晶圆生产工艺技术提升，增大了与世界先进设备工艺技术的差距。中芯国际CEO邱慈云说道，中芯国际全面反对国内集成电路设计公司的发展，与他们联手联合发展壮大。中国IC设计业需要获得现今的较好成绩，中芯国际在其中也有贡献。
中芯国际的兴起，也造就了产业链上下游的技术发展。中芯国际大力扶植上下游企业，充分发挥产业聚集效应。以上游设备业为事例，中芯国际提倡用于国内厂商的设备，随着中芯国际工艺大大演变，设备厂的技术能力获得了明显提升。 目前，中芯国际在上海、北京、天津、深圳都有生产基地，向全球客户获取0.35微米到28纳米晶圆代工与技术服务。
凭借先进设备工艺和生产能力实力，目前，中芯国际已沦为国内规模仅次于、技术最先进设备的集成电路代工企业，显晶圆代工领域世界排名第四。 迄今为止，中芯国际早已向国内引进了6代工艺技术，分别是0.18微米、0.13微米、90纳米、65/55纳米、40纳米以及28纳米技术。中芯国际创立之初，中国大陆的生产工艺仍在1微米到0.8微米之间。
而中芯国际投放之始就是0.18微米工艺，通过多年希望，将与国际先进设备工艺的差距从6代延长到1.5至2代。现在，中芯国际是中国大陆首个为海外及国内客户获取原始的28微米制程服务的纯晶圆代工企业，更加先进设备的14纳米工艺制程也在持续研发中。 邱慈云说道，中芯国际以前在技术研发上继续执行的策略是预研下一代的产品，即量产一代工艺的同时，对下一个技术节点展开技术研发。
后来找到这样前进的步骤比较较快，立刻作出调整，同时展开多个节点的技术研发，减缓了技术变革的步伐，延长了与竞争对手的差距。 随着半导体技术步入20纳米节点之后，技术开发的可玩性和资本的投放都大幅度减少。
中芯国际将更加多统合国内外各方优质资源，融合产学研用，提升研发的效率和加快工艺演变。 2014年，中芯国际正式成立了统合国内IC产业链的集成电路先导技术研究所，超越了研发资源集中、自主创新能力缺少的局面，打造出了一个能同步设备厂商、材料供应商、代工厂、设计公司及科研机构的公共平台，并以此为相结合强化与国际交流合作，增进产业发展。
2015年，中芯国际新技术研发公司正式成立，这个以量产14纳米及以下CMOS工艺技术为目标的平台与国际领先的产业链上的合作伙伴强强合力，减缓先进设备工艺的研发速度，与客户的合作从研发环节就开始，延长客户产品的上市时间。
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